한국재벌기업들이 중국기업들을 절대 못 이기는 이유
제언: 한국 재벌기업들은 도덕성, 기업문화, 인력 교육 등 모든 면에서 재창업에 가까운 개선을 해야 한다.
국가는 법조 개혁을 해야 한다. 법조가 범죄자들 빼 주고 밤죄수익 공유로 국가 도덕성이 무너져서 경쟁력이 없다
이제는 그만 뒀으나 정의선 회장이 천억원 주고 영입했다는 가짜 우수 인력이 아래와 같이 말했다 한다. 중국기업들은 자율주행과 전기차, AI와 로봇에서 이미 한국대기업들을 상당히 앞서고 있다. 뿐만 아니라 반도체에서도 5년내 추월을 할 것이다.
[단독] "中기술 갖다씁시다"…현대차 자율주행 수장 충격 발언
중앙일보
업데이트 2026.01.23 16:24
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지난해 여름 어느 날, 서울 양재동 현대차그룹 본사 회장 집무실. 공기는 유난히 무거웠다.
현대차그룹의 SDV(소프트웨어정의차량) 전환과 자율주행의 전권을 쥐고 있던 송창현 당시 사장(AVP본부장 겸 포티투닷 대표)이 말을 꺼냈다.
“회장님, 현재 우리 기술력으로는 한계가 명확합니다. 중국 샤오펑(XPENG)의 자율주행 기술을 도입하는 방안을 검토해야 합니다.” [출처:중앙일보]
그럼에도 국뽕에 빠지고 재벌숭배자들은 중국 폄하하기 바쁘다.
반도체도 동일하다 중국이 5년이면 대등하게 올라 올 갓이다
이유는 명확하다. 한국의 재벌 구조는 전문성에서 미국과 중국 먹이감이 될 수 밖에 없다.
기업경영은 결국 1명이다 최종 의사결정권자 즉 CEO이다. 한국 재벌들은 의사결정권자가 반도체, 조선, 건설, 가전, 통신 등 이질적 사업들을 신경 써야 하는데, 애플, 엔비디아, TSMC(대만), BYD 등은 주력 사업만 깊이 판다.
그렇기에 한국 재벌구조는 한계에 왔고, 쇠퇴할 수 밖에 없다.
중국이 노광기 개발할 동안, 한국 재벌들은 기술 개발하는 중소전문기업들 기술이나 탈취하자고 기웃 거렸다. 그러니, 미래는 정해져 있다.
한국은 오천년 짧은 전성기를 뒤로 하고 쇠락만 남았다. 아니, 이미 20년전부터 최고자살 최저출생이라는 선행지표가 계속 되어 왔는데 개선 노력은 커녕, 법조 관료 정치인들의 부패와 결탁으로 법은 범죄인들을 법조가 빼 주고 범죄수익을 공유하면서 사회 전체의 도덕성을 바닥으로 끌어 내렸다.
한국 반도체는 끝났다.
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'물 한 방울'로 삼전닉스 자리 넘본다…中 '극강의 기술' 정체 [강경주의 테크X]
입력2026.07.29 06:30 수정2026.07.29 06:34
중국 첫 이머전 DUV 양산…SMIC·CXMT 공급 임박
DUV와 EUV, 무엇이 다른가…"파장이 수율 결정"
삼성·SK 긴장시키는 중국 DUV…메모리 경쟁 변수
CXMT 476% 폭등…중국 반도체 자립 기대감 폭발
중국이 반도체 공정의 '심장'으로 불리는 이머전(침지형) 심자외선(DUV) 노광기 국산화에 성공한 것으로 알려지면서 글로벌 반도체 기업 주가가 요동치고 있다. 미국의 대중 반도체 제재를 뚫을 핵심 퍼즐을 맞췄다는 평가가 나오는 가운데, 중국 반도체 기업과 삼성전자·SK하이닉스의 경쟁 구도에도 변화가 있을지 관심이 쏠린다.
'물 한 방울'이 바꾼 반도체 미세공정…이머전 DUV의 원리
미국 정보기술(IT) 전문 매체인 더인포메이션은 28일 중국의 한 기업이 자체 개발한 이머전 DUV 장비를 생산하기 시작했으며 올해 5대를 제작해 고객사에 납품할 예정이라고 보도했다.
매체에 따르면 올해 생산분은 파운드리(반도체 수탁생산) 업체인 SMIC, 화훙반도체와 메모리 기업인 CXMT 등 중국의 주요 반도체 업체들에게 공급된다. 중국 업체가 이머전 DUV를 제조하는 것은 이번이 처음이다. 매체는 내년에 20대가 출하될 것이라고 전했다.
미국은 2019년부터 네덜란드의 ASML이 유일하게 만드는 최첨단 극자외선(EUV·Extreme Ultraviolet) 노광기의 중국 수출을 금지시켰다. 이어 2023년부터는 이머전 DUV 장비의 중국 수출마저 금지시킨 상태다.
반도체는 실리콘 웨이퍼 위에 머리카락 굵기의 수천분의 1에 불과한 초미세 회로를 그려 만드는 제품이다. 이 회로를 빛으로 새기는 장비가 노광기이고, DUV 노광기는 현재 반도체 산업에서 가장 널리 사용되는 핵심 장비다. 중국이 자체 개발한 것으로 알려진 이머전 DUV는 기존 DUV보다 한 단계 진화한 기술이다.
기존 DUV는 노광기 렌즈와 웨이퍼 사이에 공기가 있었지만 이머전 DUV는 그 공간을 초순수(물)로 채운다. 물은 공기보다 빛의 굴절률이 높아 빛을 더욱 정밀하게 한곳에 모을 수 있다. 쉽게 말해 카메라 렌즈의 해상도를 높여 더 선명한 사진을 찍는 원리와 같다.
같은 193나노미터(㎚·1나노는 10억분의 1m) 파장의 빛을 사용하더라도 더 미세한 회로를 구현할 수 있는 이유다. 이머전 DUV는 한 번의 노광으로 28나노 공정을 구현할 수 있다. 여기에 동일한 회로를 여러 차례 반복해서 새기는 멀티패터닝 기술을 적용하면 이론적으로 7나노 수준의 공정까지 구현이 가능하다. 미국의 수출 규제를 받는 중국이 이머전 DUV 개발에 사활을 걸었던 이유도 여기에 있다.
다만 멀티패터닝은 회로를 한 번에 그리는 것이 아니라 여러 번 나눠 새기는 방식이다. 그만큼 공정 횟수가 늘어나고 생산 시간이 길어져 수율은 낮아지고 제조원가는 크게 높아지는 한계가 있다. 이 때문에 삼성전자와 TSMC, 인텔 등이 5나노·3나노·2나노 이하 최첨단 공정에 대부분 EUV 노광기를 사용하고 있다. DUV로도 첨단 공정 구현은 가능하지만 경제성과 생산성 측면에서는 EUV가 훨씬 유리하기 때문이다.
DUV와 EUV의 가장 큰 차이는 빛의 파장이다. 반도체 노광 기술에서는 사용하는 빛의 파장이 짧을수록 더 미세한 회로를 그릴 수 있다. DUV는 193나노 파장의 불화아르곤(ArF) 레이저를 사용하는 반면, EUV는 13.5나노 파장의 극자외선을 이용한다. EUV의 파장이 DUV보다 약 14배 짧은 셈이다. EUV는 한 번 노광으로 더 미세한 회로를 구현할 수 있어 생산성과 수율이 크게 높다.